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溅射靶材公司分析资源是否稀缺

发布时间:2018-11-02  来源: /news/37.html
      溅射靶材公司分析资源是否稀缺
      溅射靶材简介:超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
      溅射靶材是否属于稀缺资源呢?稀有金属,通常指在自然界中含量较少或分布稀散的金属,它们难于从原料中提取,在工业制备和应用较晚。但在现代工业中有广泛的用途。中国稀有金属资源丰富。
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