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天津旋转靶材生产分析国产化如何发展

发布时间:2018-09-28  来源: /news/25.html

      天津旋转靶材生产分析国产化如何发展

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      长期以来,高端靶材供应遭国外企业垄断,国内面板产业链缺乏自主性,驱使国家政策强力支持面板配套材料及设备的国产化。
      显示面板常用靶材
      靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源,面板常用的靶材主要分为金属靶材和陶瓷靶材两种。在显示面板的制程中,靶材主要用于TFT中的电机、布线材料或阻挡层材料。
      靶材按外形可分为平面靶材和旋转靶材两种,其中平面靶材在面板PVD制程中正常消耗量是35%-40%,旋转靶材则达到70%以上。张雪凤介绍,这意味着在工业应用中,旋转靶材的建设效率和使用效率高于平面靶材。
      Mo靶材和ITO靶材分别是金属靶材和陶瓷靶材的重点。Mo靶材主要用于TFT的栅极、源级和漏级金属电极。以前,ITO靶材生产工艺主要是热压烧结法、注浆烧结法,现在则是冷压烧结法。
      国产靶材的发展现状
      目前国产化靶材的产能已经突破2000吨/年,但张雪凤认为,靶材国产化仍有困难。
      陶瓷靶材方面,ITO靶材是资金和技术密集型产业,目前国产ITO靶材虽然与进口靶材拉开了差距,但产能和日韩主流靶材企业还有差距,而且新型靶材的研发及量产经验明显不足,需要大量的配套资金支持;IZGO靶材起步较晚,且面临着国外企业设置的专利壁垒,进展缓慢。
      金属靶材方面,Al靶、Cu靶的原材料高纯铜锭和铝锭都掌握在国外企业手上;大尺寸钼合金靶材的研发、生产能力较弱。
      此外,靶材国产化还存在一些综合影响因素。一是面板产线的靶材国产化导入周期长、测试成本高等客观因素;二是国内靶材产业尚处于成长期,产业规模与国外相比还存在差距,抗风险能力相对较弱。

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